O substrato cerâmico de nitreto de silício apresenta inúmeras vantagens, como alta resistência, alta tenacidade e condutividade térmica excepcional (130W/(m-k)). Além disso, seu coeficiente de expansão térmica é próximo do dos semicondutores Si, SiC e GaN. Consequentemente, o substrato cerâmico de nitreto de silício é uma escolha ideal para embalar módulos de alta potência, tornando-o amplamente considerado a opção de substrato cerâmico mais adequada.

Nossa empresa utiliza o processo de nitreto direto para produzir pó de silício de alta pureza. Por meio de nossa tecnologia patenteada única, controlamos o material de silício, o processo de nitruração e o processo de refino para preparar o pó de nitreto de silício CF-HJ com alta pureza, alto teor de fases, distribuição estreita do tamanho das partículas e atividade excepcional de sinterização. Esse tipo de pó de nitrueto de silício efetivamente eliminou monopólios estrangeiros e pode servir como um substituto totalmente viável para o pó de nitreto de silício importado com o mesmo nível de qualidade.